Japonská nadnárodní holdingová společnost SoftBank sídlící v Tokiu oznámila investici 2 miliardy dolarů do amerického výrobce polovodičů Intel. Hned po oznámení investice akcie Intelu vzrostly o více než 5%. Masayoshi Son, šéf SoftBank, označil transakci za strategickou investici, která odráží jejich víru v pokročilou výrobu polovodičů ve Spojených státech.
Intel se potýká s vážnými problémy, ztratil dominantní pozici kvůli strategickým chybám a má menší zastoupení, než by se očekávalo v rychle rostoucím segmentu AI čipů, který ovládá Nvidia. Ve druhém čtvrtletí 2025 vykázal ztráty na akciích, což bylo čtvrté ztrátové čtvrtletí v řadě. Společnost také propustila 15% zaměstnanců a zrušila plány na továrnu v Německu za 30 miliard eur.
Nový generální ředitel Lip-Bu Tan čelí kritice prezidenta Trumpa kvůli minulým investicím do čínských technologických firem. Tan je jeden se zakladatelů firmy Walden International, která investovala více než 200 milionů dolarů do čínských polovodičových startupů. Některé z těchto investic zahrnovaly společnosti s údajnými vazbami na čínskou armádu nebo státní podniky, což vyvolalo obavy z potenciálních bezpečnostních rizik pro americký technologický sektor.
Trumpova administrativa zvažuje převzetí až 10% podílu v Intelu, to by představovalo přibližně 10 miliard dolarů při současné tržní hodnotě společnosti.
Analytici upozorňují, že 2 miliardy dolarů "nebudou to, co změní nynější situaci Intelu". Společnost stále nemá konkurenceschopné produkty pro AI, zaostává ve výrobních technologiích a nedokázala přilákat významné externí zákazníky. Kombinace investice SoftBank a potenciální vládní podpory však může Intelu poskytnout potřebný čas pro dokončení transformace.
Komentáře (
--
)
Lorem ipsum dolor sit amet, consectetur adipiscing elit. Suspendisse varius enim in eros elementum tristique. Duis cursus, mi quis viverra ornare, eros dolor interdum nulla, ut commodo diam libero vitae erat. Aenean faucibus nibh et justo cursus id rutrum lorem imperdiet. Nunc ut sem vitae risus tristique posuere.